«Микрон» совместно с МГИЭТ (ТУ) подготовил магистров, которые будут проектировать микросхемы с топологическими нормами 90 нанометров

Сегодня состоялось торжественное вручение дипломов выпускникам магистратуры МИЭТ по проектированию и производству микросхем с проектными нормами 90 нанометров. 

Это первый выпуск в рамках совместного проекта компаний РОСНАНО, Микрон и Технического Университета МИЭТ. Обучение в магистратуре, для прошедших специальный отбор студентов, производится частично за счет средств ОАО «НИИМЭ и Микрон». 

Программа профессиональной подготовки высококвалифицированных специалистов реализована для проекта «Создание серийного производства СБИС на основе наноэлектронной технологии с проектными нормами 90 нанометров». Программа ориентирована на освоение практических навыков работы непосредственно на самом передовом производстве в России и СНГ с проектными нормами 180 и 90 нанометров. Ведущие специалисты, прошедшие обучение во Франции у технологического партнера STMicroelectronics, передавали свои знания и навыки молодым специалистам. Обучение в магистратуре длилось два года, и в этом году состоялся первый выпуск магистров в количестве 34 человек. 

Создавая кадровый потенциал для развития новых передовых технологий, ОАО «НИИМЭ и Микрон» пригласил 66% процентов успешных выпускников продолжить карьеру на Микроне после окончания магистратуры.